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Aplicaciones de la física de plasmas en la industria

dc.contributor.authorSaettone Olschewski, Erich Arturo
dc.contributor.otherSaettone Olschewski, Erich Arturo
dc.date.accessioned42717.4381481481
dc.date.issued2010
dc.identifier.citationSaettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es_PE
dc.identifier.issn1025-9929
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12724/2572
dc.description.abstractSe presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).es_PE
dc.formatapplication/pdf
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad de Lima
dc.relation.ispartofurn:issn:1025-9929
dc.relation.urihttp://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess*
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/*
dc.sourceRepositorio Institucional Ulima
dc.sourceUniversidad de Lima
dc.subjectTecnología del plasma
dc.subjectPlasma physics
dc.subjectPlasma technology
dc.subjectPlasma CVD
dc.subjectPlasma PVD
dc.subjectFísica del plasmaes
dc.subject.classificationCiencias / Física
dc.subject.classificationIngenierías / Ingeniería industriales
dc.titleAplicaciones de la física de plasmas en la industriaes_PE
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.type.otherArtículo
dc.identifier.journalIngeniería Industrial
dc.publisher.countryPE
dc.identifier.doihttps://doi.org/10.26439/ing.ind2010.n028.247


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