Aplicaciones de la física de plasmas en la industria
| dc.contributor.author | Saettone Olschewski, Erich Arturo | |
| dc.contributor.other | Saettone Olschewski, Erich Arturo | |
| dc.date.issued | 2010 | |
| dc.identifier.citation | Saettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223 | es_PE |
| dc.identifier.issn | 1025-9929 | |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/20.500.12724/2572 | |
| dc.description.abstract | Se presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR). | es_PE |
| dc.format | application/pdf | |
| dc.language.iso | spa | |
| dc.publisher | Universidad de Lima | |
| dc.relation.ispartof | urn:issn:1025-9929 | |
| dc.relation.uri | http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223 | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | * |
| dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ | * |
| dc.source | Repositorio Institucional - Ulima | |
| dc.source | Universidad de Lima | |
| dc.subject | Tecnología del plasma | |
| dc.subject | Plasma physics | |
| dc.subject | Plasma technology | |
| dc.subject | Plasma CVD | |
| dc.subject | Plasma PVD | |
| dc.subject | Física del plasma | es |
| dc.title | Aplicaciones de la física de plasmas en la industria | es_PE |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/article | |
| dc.identifier.journal | Ingeniería Industrial | |
| dc.publisher.country | PE | |
| dc.type.other | Artículo | |
| dc.identifier.doi | https://doi.org/10.26439/ing.ind2010.n028.247 |
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Ingeniería Industrial [120]
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