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dc.contributor.authorSaettone Olschewski, Erich Arturoes
dc.contributor.otherSaettone Olschewski, Erich Arturo
dc.date.accessioned2016-12-13T15:30:56Zes
dc.date.available2016-12-13T15:30:56Zes
dc.date.issued2010es
dc.identifier.citationSaettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es_ES
dc.identifier.issn1025-9929es
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12724/2572
dc.description.abstractSe presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).spa
dc.formatapplication/pdfes
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad de Limaes_PE
dc.relation.urihttp://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/es
dc.sourceUniversidad de Limaes
dc.sourceRepositorio Institucional Ulimaes
dc.subjectFísica del plasmaes
dc.subjectTecnología del plasma
dc.subjectPlasma physics
dc.subjectPlasma technology
dc.subjectPlasma CVD
dc.subjectPlasma PVD
dc.subject.classificationIngenierías / Ingeniería industriales
dc.subject.classificationCiencias / Física
dc.titleAplicaciones de la física de plasmas en la industriaes
dc.identifier.journalIngeniería Industriales
dc.publisher.countryPE


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