Aplicaciones de la física de plasmas en la industria

Saettone Olschewski, Erich Arturo

dc.contributor.author	Saettone Olschewski, Erich Arturo
dc.contributor.other	Saettone Olschewski, Erich Arturo
dc.date.issued	2010
dc.identifier.citation	Saettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223	es_PE
dc.identifier.issn	1025-9929
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/20.500.12724/2572
dc.description.abstract	Se presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).	es_PE
dc.format	application/pdf
dc.language.iso	spa
dc.publisher	Universidad de Lima
dc.relation.ispartof	urn:issn:1025-9929
dc.relation.uri	http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess	*
dc.rights.uri	https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/	*
dc.source	Repositorio Institucional - Ulima
dc.source	Universidad de Lima
dc.subject	Tecnología del plasma
dc.subject	Plasma physics
dc.subject	Plasma technology
dc.subject	Plasma CVD
dc.subject	Plasma PVD
dc.subject	Física del plasma	es
dc.title	Aplicaciones de la física de plasmas en la industria	es_PE
dc.type	info:eu-repo/semantics/article
dc.identifier.journal	Ingeniería Industrial
dc.publisher.country	PE
dc.type.other	Artículo
dc.identifier.doi	https://doi.org/10.26439/ing.ind2010.n028.247

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