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dc.contributor.authorSaettone Olschewski, Erich Arturo
dc.contributor.otherSaettone Olschewski, Erich Arturo
dc.date.accessioned42717.4381481481
dc.date.issued2010
dc.identifier.citationSaettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es_PE
dc.identifier.issn1025-9929
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12724/2572
dc.description.abstractSe presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).es_PE
dc.formatapplication/pdf
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad de Lima
dc.relation.ispartofurn:issn:1025-9929
dc.relation.urihttp://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223es
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess*
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/*
dc.sourceRepositorio Institucional Ulima
dc.sourceUniversidad de Lima
dc.subjectTecnología del plasma
dc.subjectPlasma physics
dc.subjectPlasma technology
dc.subjectPlasma CVD
dc.subjectPlasma PVD
dc.subjectFísica del plasmaes
dc.subject.classificationCiencias / Física
dc.subject.classificationIngenierías / Ingeniería industriales
dc.titleAplicaciones de la física de plasmas en la industriaes_PE
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.type.otherArtículo
dc.identifier.journalIngeniería Industrial
dc.publisher.countryPE
dc.identifier.doihttps://doi.org/10.26439/ing.ind2010.n028.247


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